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MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK 化學真空系統使用一個真空泵即可同時實現兩種過程控制??膳c旋轉蒸發儀、真空濃縮儀和真空烘箱等配合使用。每個真空連接口配備一個手動控制閥來調節進氣口的有效流量。
VACUUBRAND耐腐蝕化學真空泵PC 611 NT經證實可用于許多蒸發過程的真空獲取或控制。該系統使一個泵同時進行兩個真空操作成為可能。它的基礎泵為MD 4C NT三級化學隔膜泵,可滿足大部分高沸點溶劑的真空要求。
VACUUBRAND化學真空系統PC 611 NT經證實可用于許多蒸發過程的真空獲取或控制。該系統使一個泵同時進行兩個真空操作成為可能。它的基礎泵為MD 4C NT三級化學隔膜泵,可滿足大部分高沸點溶劑的真空要求。
PC 620 NT VACUUBRAND化學真空系統采用一個真空泵同時進行兩個獨立的真空應用的操作,是既經濟又節省空間的好選擇。每個真空端口安裝一個帶電磁閥的CVC 3000真空控制器進行真空控制。