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  • 防腐蝕化學隔膜泵MZ 2C NT
    防腐蝕化學隔膜泵MZ 2C NT

    防腐蝕化學隔膜泵MZ 2C NT專為化學設計的隔膜泵是針對腐蝕性氣體和蒸汽的一種持續的、無油抽氣的解決方案。雙級泵的結構同時具有抽氣速度大和低極限真空的優點。所有與所抽介質接觸的部件均采用耐化學腐蝕的...

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  • vacuubrand變頻化學真空系統
    vacuubrand變頻化學真空系統

    vacuubrand變頻化學真空系統PC 3001 VARIO select能控制真空度,以實現良好的工藝過程控制。該泵適用于高沸點溶劑。集成式的VACUU·SELECT真空控制器搭配了簡單...

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  • 頂置攪拌器
    頂置攪拌器

    Hei-TORQUE Core頂置攪拌器適用于低粘度到中等粘度介質的攪拌,最大攪拌量25L,允許大直徑(10mm)攪拌槳的應用,如CISCO JET®,應用更加廣泛。

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  • 電動旋轉蒸發儀
    電動旋轉蒸發儀

    Hei-VAP Core ML/G3 XL電動旋轉蒸發儀舍棄了復雜的菜單和自動編程。轉而強調操作簡單,輕松讀取參數與直觀的活動顯示,但不犧牲質量與用戶友好度。

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  • -20度低溫恒溫攪拌反應浴
    -20度低溫恒溫攪拌反應浴

    -20度低溫恒溫攪拌反應浴可替代干冰和液氮做低溫反應,主要用于冷卻燒瓶、燒杯、試管等反應器,適用于醫院、科研、高校及企業實驗室。

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  • -78度低溫恒溫攪拌反應浴
    -78度低溫恒溫攪拌反應浴

    低溫恒溫攪拌反應浴是目前國內為*進的集低溫、恒溫、攪拌于一體的實驗裝置,適用于科研、生物、物理、醫藥、化工等部門進行低溫實驗,-78度低溫恒溫攪拌反應浴500ml代替干冰和液氮做低溫反應和相關設備提供...

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  • Hei-VAP Core HL旋轉蒸發儀1L
    Hei-VAP Core HL旋轉蒸發儀1L

    Hei-VAP Core HL旋轉蒸發儀1L真空系統的密封性縮短了蒸發時間,節約了運行成本。冷凝器配備無脂連接結構,避免污染或冷凝管破碎。 抗腐蝕的PTFE真空密封件以及直接與間接的介質接觸部件,均*...

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  • Hei-CHILL 350 -10℃冷卻循環水浴
    Hei-CHILL 350 -10℃冷卻循環水浴

    Hei-CHILL 350 -10℃冷卻循環水浴緊湊的設計可輕松放在實驗臺上,制冷功率為350W。緊湊的儀器設計外觀,大型LED顯示屏,薄膜鍵盤和用于監控循液位的窗口。

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  • Unistat 405加熱制冷溫度控制系統
    Unistat 405加熱制冷溫度控制系統

    Unistat 405加熱制冷溫度控制系統通過有效的能源管理將操作成本降低。 延長導熱油使用壽命。密封的液壓系統防止導熱油氧化。

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  • DLSB-50/30低溫冷卻水循環裝置
    DLSB-50/30低溫冷卻水循環裝置

    DLSB-50/30低溫冷卻水循環裝置是采取機械形式制冷的低溫液體循環設備,具有提供低溫液體、低溫水浴的作用。結合旋轉蒸發器,真空冷凍干燥箱、循環水式真空泵,磁力攪拌器等儀器,進行多功能低溫下的化學反...

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