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VACUUBRAND化學真空系統PC 611 NT經證實可用于許多蒸發過程的真空獲取或控制。該系統使一個泵同時進行兩個真空操作成為可能。它的基礎泵為MD 4C NT三級化學隔膜泵,可滿足大部分高沸點溶劑的真空要求。
PC 620 NT VACUUBRAND化學真空系統采用一個真空泵同時進行兩個獨立的真空應用的操作,是既經濟又節省空間的好選擇。每個真空端口安裝一個帶電磁閥的CVC 3000真空控制器進行真空控制。
VACUUBRAND化學真空系統PC 620 NT采用一個真空泵同時進行兩個獨立的真空應用的操作,是既經濟又節省空間的好選擇。每個真空端口安裝一個帶電磁閥的CVC 3000真空控制器進行真空控制。
化學真空系統 PC 620 NT采用一個真空泵同時進行兩個獨立的真空應用的操作,是既經濟又節省空間的好選擇。每個真空端口安裝一個帶電磁閥的CVC 3000真空控制器進行真空控制。