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普蘭德PC 510 NT化學真空系統可在許多蒸發應用中用于獲取和控制真空。其核心組件為MZ 2C NT化學隔膜泵,常用于含有“常規”溶劑的中等尺寸的真空體系。系統配備一個帶電磁閥的CVC 3000真空控制器進行電子真空控制。
化學真空系統MZ 2C NT+AK SYNCHRO+EK用一個泵可同時操作兩個不同的應用。主要用于連接旋轉蒸發儀、真空濃縮儀和真空干燥箱。每個真空接口配一個手動流量控制閥來調節有效抽速。
MZ 2C NT +AK SYNCHRO+EK化學真空系統用一個泵可同時操作兩個不同的應用。主要用于連接旋轉蒸發儀、真空濃縮儀和真空干燥箱。每個真空接口配一個手動流量控制閥來調節有效抽速。
VACUUBRAND化學真空系統PC 511 NT可在許多蒸發應用中用于獲取和控制真空。其核心組件為MZ 2C NT化學隔膜泵,常用于含有“常規”溶劑的中等尺寸的真空體系